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        同時實現高解像力與大視場曝光,佳能半導體光刻機新品可應用于XR器件制造領域
        佳能計劃于2023年3月13日發售面向前道工序的半導體光刻機新產品----i線步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產品能夠同時實現0.5μm高解像力與50×50mm大視場曝光。 新產品“FPA-5550iX”能夠同時實現0.5μm高解像力與50×50mm大視場曝光,在不斷趨向高精尖化的全畫幅CMOS傳感器制造領域中,使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時,通過充分利用高解像力與大視場
        2023-03-13 15:26:55
        來源:丁科技網??

        佳能計劃于2023年3月13日發售面向前道工序的半導體光刻機新產品----i線步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產品能夠同時實現0.5μm高解像力與50×50mm大視場曝光。

        新產品“FPA-5550iX”能夠同時實現0.5μm高解像力與50×50mm大視場曝光,在不斷趨向高精尖化的全畫幅CMOS傳感器制造領域中,使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時,通過充分利用高解像力與大視場的優勢,“FPA-5550iX”也可應用于頭戴式顯示器等小型顯示設備制造的曝光工序中。此外,隨著先進的XR器件顯示器需求增加,該產品也可廣泛應用于大視場、高對比度的微型OLED顯示器制造。新產品“FPA-5550iX”不僅能夠應用于半導體器件制造,也可以在最先進的XR器件顯示器制造等更廣泛的器件制造領域發揮其作用。

        1. 通過制造方法的革新,兼顧高解像力與大視場曝光,實現更加穩定的鏡頭供應

        新產品“FPA-5550iX”通過繼承現款機型“FPA-5510iX”(2015年9月發售)中采用的投影鏡頭,實現了0.5μm的高解像力成像。同時,通過實現50×50mm的大視場曝光,讓全畫幅CMOS傳感器及XR顯示器制造中所需的大視場、高解像力單次曝光成為可能。此外,通過制造方法的革新,能夠實現更優質、更穩定的投影鏡頭供應,滿足半導體光刻設備制造的旺盛需求。

        2. 通過采用可讀取各類對準標記的調準用示波器,進一步加強制程對應能力

        調準用示波器不僅具備檢測直射光的“明場檢測”功能,還新增了檢測散射光和衍射光的“暗場檢測”功能,用戶可根據使用需求選擇相應的檢測方法。通過可選波長范圍的擴大、區域傳感器的應用,加之可進行多像素測量,最終實現更低噪點的檢測效果,即使是低對比度的對準標記,也可以進行檢測。此外,可以應用于各類對準標記的測量,加強對用戶多樣制程的支持能力。比如,作為選裝功能,用戶可以選擇配備能夠穿透硅片的遠紅外線波長,以便在背照式傳感器制造過程中對晶圓背面進行對準測量。

        3. 通過與Lithography Plus的協同,提高運轉效率

        通過與解決方案平臺“Lithography Plus”(2022年9月上市)的協同,對光刻設備的狀態進行監測、分析,實現光刻設備良好的品質管控以及更高的運轉效率。

        〈主要特點〉

        1.    通過制造方法的革新,兼顧高解像力與大視場曝光,實現更加穩定的鏡頭供應

        通過繼承現款機型“FPA-5510iX”(2015年9月發售)采用的1/2縮小投影鏡頭,實現0.5μm的高解像力。

        50×50mm大視場曝光可以對全畫幅CMOS傳感器以及下一代XR顯示器上所需的大視場實現高解像力單次曝光。

        通過鏡頭制造方法的革新,可以滿足半導體設備制造的旺盛需求,實現高品質鏡頭的穩定供應。

        2. 通過采用可讀取各類對準標記的調準用示波器,進一步加強制程對應能力

        在檢測直射光的“明場檢測”功能基礎上,新增了可以檢測散射光和衍射光的“暗場檢測”功能。針對僅憑“明場檢測”功能難以檢測與晶圓的對準標記,“暗場檢測”功能也非常有效。因此,用戶可根據需求選擇合適的檢測方式。

        〈關于對準標記〉

        可選波長范圍擴大。采用區域傳感器。通過多像素測量,選取已獲取信息的平均值,實現更低噪點。此外,低對比度的對準標記也可以測量。

        可以應用于各類對準標記的測量,強化對應用戶各類制程的能力,比如,作為選裝功能,用戶可以選擇能穿透硅片的遠紅外線波長,以便在背照式傳感器制造過程中對晶圓背面進行對準測量。

        半導體制作需要堆疊多層回路,因此需要精確對準電路圖,對準標記是其達成精確堆疊半導體回路的標準。根據對準標記可以檢測出正確的位置信息。

        是一種可以讀取晶圓上的對準標記并進行對準的顯微鏡。其原理是從對準光源將光照射到對準標記上,透過鏡頭,在區域傳感器上感光從而進行檢測。

        光刻設備要對電路圖進行多次重復曝光。其定位精度是非常高的。如果不能對已經曝光的下層部分進行準確定位的話,整個電路的質量會降低,進而導致生產良品率的降低。

        (關于調準用示波器)

        3. 通過與Lithography Plus的協同,提高運轉效率

         通過與解決方案平臺“Lithography Plus”(2022年9月上市)的協同,對光刻設備的狀態進行監測分析,實現光刻設備良好的品質管控以及更高的運轉效率。

        〈大視場半導體光刻設備的市場動向〉

        在全畫幅CMOS傳感器的制造中,通過高精度工藝的高解像力一次性曝光的需求不斷增加。同時,為了營造更好的沉浸體驗,元宇宙XR器件顯示器等領域對于高對比度的微型OLED顯示器的需求也日漸增加。因此,不僅在半導體領域,在高精度顯示器制造等領域,新產品也將得到廣泛應用。(佳能調查)

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